金宏气体公布高纯乙硅烷中杂质的分析系统和分析方法专利_企业

天眼查APP显示,金宏气体股份有限公司申请的“高纯乙硅烷中杂质的分析系统和分析方法”专利公布。 摘要显示,本发明公开了一种高纯乙硅烷中杂质的分析系统和分析方法。该分析系统包括第一十通阀、第一定量管、第一色谱柱、第一六通阀、第二定量管、第二色谱柱、第二六通阀、第一PDD检测器、第三色谱柱、第二十通阀、第三定量管、第四色谱柱、第三六通阀、第五色谱柱和第二PDD检测器。本发明的高纯乙硅烷中杂质的分析系统和分析方法采用五阀五柱、双检测器的配置模式,将不同杂质分配在不同的检测器上进行,通过控制多通阀的工作状态并调控切阀时间,实现同一气路进样,多气路分离及分析,从而在一次分析过程中就可以得到样品气中所有杂质的分析结果并且还能反吹出主组分或者硅烷类杂质,去除主峰背景的干扰,提高了分析过程的效率及准确性。

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